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标题
Oxygen vacancy contributions to the electrical stress response and endurance of ferroelectric hafnium zirconium oxide thin films
氧空位对铁电氧化铪锆薄膜电应力响应和耐久性的影响
相关领域
材料科学 铁电性 光致发光 光电子学 空位缺陷 锆 铪 冶金 结晶学 电介质 化学
网址
https://doi.org/10.1063/5.0142789
AI链接 scitation.org osti.gov osti.govdoi.org
DOI
10.1063/5.0142789 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Antik Mallick; Megan K. Lenox; Thomas E. Beechem; Jon F. Ihlefeld; Nikhil Shukla
出版日期：2023-03-27
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幸福的冷之 在 2025-03-05 15:56:29 发布自河北，悬赏 10 积分
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