Tuning the characteristics of Al2O3 thin films using different pulse configurations: Mid-frequency, high-power impulse magnetron sputtering, and their combination

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标题	Tuning the characteristics of Al2O3 thin films using different pulse configurations: Mid-frequency, high-power impulse magnetron sputtering, and their combination 用不同脉冲结构调节Al2O3薄膜特性：中频、大功率脉冲磁控溅射及其组合相关领域高功率脉冲磁控溅射材料科学溅射溅射沉积薄膜结晶度无定形固体微晶物理气相沉积分析化学（期刊）复合材料光电子学冶金纳米技术结晶学化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2023.129648
DOI	10.1016/j.surfcoat.2023.129648 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Marta P. Ferreira; D. Martínez-Martínez; Jean‐Baptiste Chemin; Patrick Choquet 出版日期：2023-05-20
求助人	流年羽在 2025-03-06 10:52:48 发布自山东，悬赏 10 积分
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