Differences in HF Wet Etching Resistance of PECVD SiNx:H thin films

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标题	Differences in HF Wet Etching Resistance of PECVD SiNx:H thin films PECVD SiNx：H薄膜耐HF湿法刻蚀性能的差异相关领域 X射线光电子能谱等离子体增强化学气相沉积化学气相沉积材料科学氮化硅分析化学（期刊）薄膜傅里叶变换红外光谱蚀刻（微加工）氮化物红外光谱学退火（玻璃）硅化学工程化学纳米技术复合材料光电子学图层（电子）有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2023.128023
DOI	10.1016/j.matchemphys.2023.128023 doi
其它	期刊：Materials Chemistry and Physics 作者：Matteo Barcellona; Orazio Samperi; D.O. Russo; A. Battaglia; D. Fischer; et al 出版日期：2023-09-01
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