| 标题 |
 A Comparative Study of Cetylpyridinium Chloride and Cetyltrimethyl Ammonium Chloride as Levelers in Acidic Copper Electroplating: Electrochemical Evaluation and Theoretical Calculation 十六烷基氯化吡啶和十六烷基三甲基氯化铵作为酸性镀铜流平剂的比较研究：电化学评价和理论计算
相关领域
氯化十六烷基吡啶
铜
氯化铵
氯化物
化学
电化学
电镀
无机化学
核化学
有机化学
肺表面活性物质
电极
物理化学
生物化学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Hong Jiang; Xuefeng Zhang; Yawen Wang; Chaoli Tan; Haobin Zou; et al 出版日期：2024-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
Grayball
浦肯野
MchemG
nozero
pcr163
andrele
VDC
贰鸟
默默地读文献
cdercder
柚子皮蛋瘦肉粥
小透明
YifanWang
从容芮
brian0326
醉书生
Oracle
CAOHOU
morena
昏睡的蟠桃
皖公网安备34019202002308
