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 Deep-reactive ion etching of silicon nanowire arrays at cryogenic temperatures 低温下硅纳米线阵列的深反应离子刻蚀
相关领域
深反应离子刻蚀
材料科学
纳米光刻
硅
抵抗
纳米技术
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反应离子刻蚀
纳米线
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医学
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病理
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期刊：Applied physics reviews 作者：Jiushuai Xu; Andam Deatama Refino; Alexandra Delvallée; Sebastian Seibert; Christian H. Schwalb; et al 出版日期：2024-04-17 |
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