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 Properties of nickel oxide thin films deposited by RF reactive magnetron sputtering 射频反应磁控溅射沉积氧化镍薄膜的性能
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期刊：Thin Solid Films 作者：LU Yu-qi; Wen-Shyang Hwang; Jiyoon YANG; Hung-Shiang Chuang 出版日期：2002-12-01 |
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