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Fabrication of a novel Mn-based slurry via chemical precipitation and ultrasonic impregnation for efficient planarization of 4H-SiC (0001) through chemical mechanical polishing
化学沉淀和超声浸渍法制备新型锰基浆料,用于化学机械抛光高效平坦化4H-SiC(0001)
相关领域
化学机械平面化
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期刊:Ceramics International 作者:Shi-Dong Chen; Hong Lei; Ruling Chen; Liqiang Luo 出版日期:2024-11-01 |
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