标题 |
Asymmetry Degradation Behavior Under Forward and Backward Overlap Dynamical Stress in Large-Size Amorphous InGaZnO TFT
大尺寸非晶InGaZnO TFT在正向和反向重叠动态应力下的非对称退化行为
相关领域
降级(电信)
不对称
薄膜晶体管
压力(语言学)
无定形固体
材料科学
计算机科学
物理
化学
复合材料
电信
结晶学
量子力学
语言学
哲学
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Ruohong Duan; Zhixiang Zou; Zhong Xu; Haoxiong Zhang; Xibin Shao; et al 出版日期:2024-08-06 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|