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Improvement of grain size and deposition rate of microcrystalline silicon by use of very high frequency glow discharge
利用甚高频辉光放电改善微晶硅晶粒尺寸和沉积速率
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期刊:Applied Physics Letters 作者:F. Finger; P. Hapke; M. Luysberg; R. Carius; H. Wagner; et al 出版日期:1994-11-14 |
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