| 标题 |
 Effects of Airborne Molecular Contamination on DUV Photoresists 空气中分子污染对DUV光刻胶的影响
相关领域
光刻胶
污染
材料科学
氨
热脱附
傅里叶变换红外光谱
抵抗
热稳定性
解吸
质谱法
化学工程
分析化学（期刊）
纳米技术
环境化学
化学
有机化学
色谱法
吸附
生态学
图层（电子）
工程类
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Photopolymer Science and Technology 作者：Kim Dean; Daniel A. Miller; Ronald A. Carpio; John S. Petersen; Georgia K. Rich 出版日期：1997-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
带头大哥
干净的铅笔
热心市民小红花
嗯哼
凤凰
Cat
stuffmatter
舟行碧波上
AireenBeryl531
superxiao
薰硝壤
Leonardi
夏来
三黑猫
shinysparrow
InfoNinja
Singularity
从容芮
吴彦祖
敬老院1号
皖公网安备34019202002308
