Electrical properties of Al2O3∕4H-SiC structures grown by atomic layer chemical vapor deposition

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标题	Electrical properties of Al2O3∕4H-SiC structures grown by atomic layer chemical vapor deposition 原子层化学气相沉积Al2O3/4H-SiC结构的电学性能相关领域退火（玻璃）化学气相沉积分析化学（期刊）形成气体材料科学原子层沉积电介质氧化物深能级瞬态光谱薄膜光电子学化学硅纳米技术复合材料冶金色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.2778289
DOI	10.1063/1.2778289 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Marc Avice; Ulrike Großner; Ioana Pintilie; B. G. Svensson; M. Servidori; et al 出版日期：2007-09-01
求助人	研友_LNVpvL 在 2024-01-25 15:21:49 发布自江苏，悬赏 10 积分
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