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 Ferroelectric Hafnium Oxide Films for In‐Memory Computing Applications 用于内存计算的铁电氧化铪薄膜
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期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Zhenhai Li; Tianyu Wang; Jiajie Yu; Jialin Meng; Yongkai Liu; et al 出版日期：2022-10-08 |
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