The application of advanced pulsed plasma in Fin etch loading improvement

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标题	The application of advanced pulsed plasma in Fin etch loading improvement 先进脉冲等离子体在翅片蚀刻负载改善中的应用相关领域材料科学可控性临界尺寸等离子体 MOSFET 电容晶体管光电子学平面的多重图案缩放比例逻辑门鳍光学蚀刻（微加工）计算机科学纳米技术电气工程抵抗复合材料电压物理工程类图层（电子）几何学计算机图形学（图像）量子力学数学应用数学电极
网址	https://doi.org/10.1117/12.2266539
DOI	10.1117/12.2266539 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE 作者：Fang-Yuan Xiao; Qiu-Hua Han; Hai-Yang Zhang 出版日期：2017-03-21
求助人	芹123 在 2024-08-28 15:58:46 发布自上海，悬赏 20 积分
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