标题 |
Concurrent process and feedrate scheduling with convoluted basis functions and its application to fluid jet polishing
基于卷积基函数的并行工艺和进给率调度及其在流体射流抛光中的应用
相关领域
抛光
基函数
混蛋
控制理论(社会学)
基础(线性代数)
算法
卷积(计算机科学)
计算机科学
机械工程
工程类
加速度
数学
数学分析
几何学
人工智能
控制(管理)
物理
经典力学
人工神经网络
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:International journal of machine tools & manufacture/International journal of machine tools and manufacture 作者:Shuntaro Yamato; Burak Sencer; Anthony Beaucamp 出版日期:2024-04-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|