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 Wafer-Scale Fabrication of CMOS-Compatible Trapping-Mode Infrared Imagers with Colloidal Quantum Dots 基于胶体量子点的CMOS兼容俘获模式红外成像仪的晶片级制备
相关领域
光电子学
响应度
CMOS芯片
薄脆饼
材料科学
制作
量子点
红外线的
硅
半导体
光学
光电探测器
物理
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期刊：ACS Photonics 作者：Shuo Zhang; Cheng Bi; Tianling Qin; Yanfei Liu; Jie Cao; et al 出版日期：2023-02-13 |
| 求助人 | |
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