Dry etching in the presence of physisorption of neutrals at lower temperatures

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标题	Dry etching in the presence of physisorption of neutrals at lower temperatures 低温中性物质物理吸附下的干法蚀刻相关领域物理吸附蚀刻（微加工）化学吸附薄脆饼各向同性腐蚀冷凝硅半导体化学物理激进的分析化学（期刊）纳米技术化学工程材料科学物理化学热力学光电子学有机化学物理图层（电子）工程类
网址	https://doi.org/10.1116/6.0002230
DOI	10.1116/6.0002230 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Thorsten Lill; Ivan L. Berry; Meihua Shen; John Hoang; Andreas Fischer; et al 出版日期：2023-03-01
求助人	Halo 在 2024-05-14 21:32:50 发布自山东，悬赏 10 积分
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