| 标题 |
 The study of 28nm node poly double patterning integrated process 28nm节点多晶硅双图案集成工艺研究
相关领域
多重图案
浸没式光刻
平版印刷术
光刻
节点（物理）
蚀刻（微加工）
光学接近校正
材料科学
光电子学
极限（数学）
直线（几何图形）
过程（计算）
下一代光刻
计算机科学
线条宽度
纳米技术
光学
抵抗
电子束光刻
物理
数学
声学
数学分析
几何学
图层（电子）
操作系统
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Zhonghua Li; Runling Li; Tianpeng Guan; Biqiu Liu; Xiaoming Mao; et al 出版日期：2015-03-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
寻道图强
夏远航
哎嘿
张子捷
彭于彦祖
spark810
梓泽丘墟
Loooong
乐乐乐乐乐乐
tuanheqi
Henry
杳鸢
Singularity
shinysparrow
YifanWang
nenoaowu
VDC
贰鸟
priss111
皖公网安备34019202002308
