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 Magnetron sputtering growth and growth mechanism of GeSn films with Sn content exceeding 25% on InP substrates InP衬底上Sn含量超过25%的GeSn薄膜的磁控溅射生长及生长机理
相关领域
溅射沉积
材料科学
溅射
光电子学
腔磁控管
机制（生物学）
薄膜
纳米技术
物理
量子力学
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期刊：Applied Surface Science 作者：Yiliang Diao; Junfeng Yang; Zhanren Wang; Wenhao Meng; Guanzhou Liu; et al 出版日期：2025-03-01 |
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