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Comparison of TiN and TiAlN as a diffusion barrier deposited by atomic layer deposition
原子层沉积TiN和TiAlN作为扩散阻挡层的比较
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网址
https://hanyang.elsevierpure.com/en/publications/comparison-...
AI链接 elsevierpure.com
DOI
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其它 期刊：Journal of the Korean Physical Society
作者：Ju Youn Kim; Hyo Kyeom Kim; Young Do Kim; Young Do Kim; Won Mok Kim; et al
出版日期：2002-01-01
求助人
Screamgej 在 2025-02-05 16:47:25 发布自上海，悬赏 10 积分
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