标题 |
Thermodynamic analysis of copper CVD using CuCl as precursor
CuCl为前驱体CVD铜的热力学分析
相关领域
铜
化学
材料科学
化学工程
有机化学
工程类
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DOI | |
其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:R. Madar; C. Bérnard; J. Palleau; J. Torrès 出版日期:1992-09-01 |
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