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 Two-Color Single-Photon Photoinitiation and Photoinhibition for Subdiffraction Photolithography 用于亚衍射光刻的双色单光子光引发和光抑制
相关领域
光学
光刻
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期刊：Science 作者：Timothy F. Scott; Benjamin A. Kowalski; Amy C. Sullivan; Christopher N. Bowman; Robert R. McLeod 出版日期：2009-04-10 |
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