Stress development in plasma-deposited silicon dioxide thin-films due to hydrogen evolution

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标题	Stress development in plasma-deposited silicon dioxide thin-films due to hydrogen evolution 等离子体沉积二氧化硅薄膜中析氢引起的应力发展相关领域等离子体增强化学气相沉积退火（玻璃）二氧化硅氢硅薄膜化学活化能氧化硅扩散低介电常数氧化物材料科学分析化学（期刊）电介质化学工程复合材料纳米技术热力学物理化学有机化学氮化硅工程类物理光电子学
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2006.08.025
DOI	10.1016/j.tsf.2006.08.025 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Sathya Mani; Taher Saif 出版日期：2006-10-20
求助人	kais 在 2024-10-30 08:55:47 发布自上海，悬赏 10 积分
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