Improved chemical mechanical polishing performance in 4H-SiC substrate by combining novel mixed abrasive slurry and photocatalytic effect

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标题	Improved chemical mechanical polishing performance in 4H-SiC substrate by combining novel mixed abrasive slurry and photocatalytic effect 新型混合磨料与光催化复合提高4H-SiC基体化学机械抛光性能相关领域化学机械平面化材料科学抛光磨料泥浆碳化硅光催化表面粗糙度复合材料化学工程催化作用化学生物化学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.151676
DOI	10.1016/j.apsusc.2021.151676 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Wantang Wang; Baoguo Zhang; Ye Shi; Jiakai Zhou; Ru Wang; et al 出版日期：2022-02-01
求助人	东东呀在 2025-02-13 21:16:54 发布自吉林，悬赏 10 积分
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