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The Effects of Poly Corner Etch Residue on Advanced Finfet Device Performance
多边形角蚀残留物对先进Finfet器件性能的影响
相关领域
材料科学
制作
残留物(化学)
光电子学
下降(电信)
逻辑门
外延
电子工程
工程物理
复合材料
电气工程
化学
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医学
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生物化学
替代医学
图层(电子)
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期刊: 作者:Qingpeng Wang; Yu De Chen; Cheng Li; Rui Bao; Jacky Huang; et al 出版日期:2021-03-14 |
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