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 Reversing A Decades‐Long Scaling Law of Dielectric Breakdown using Hydrogen‐Plasma‐Treated HfO2 ReRAM Devices 使用氢等离子体处理的HfO2 ReRAM器件逆转长达数十年的介电击穿标度定律
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期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Ernest Y. Wu; Takashi Ando; P. Jamison 出版日期：2023-07-25 |
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