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 Plasma atomic layer etching for titanium nitride at low temperatures 氮化钛低温等离子体原子层刻蚀
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Dahee Shim; Jihyun Kim; Yong‐Jae Kim; Heeyeop Chae 出版日期：2022-02-25 |
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