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 Stencil Mask Technology for Electron-Beam Projection Lithography 电子束投影光刻中的模板掩模技术
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期刊：Japanese journal of applied physics 作者：Isao Amemiya; Hiroshi Yamashita; Sakae Nakatsuka; Tadashi Sakurai; Ikuru Kimura; et al 出版日期：2003-06-30 |
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