Heterometallic Ti-Zr oxo nanocluster photoresists for advanced lithography

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标题	Heterometallic Ti-Zr oxo nanocluster photoresists for advanced lithography 用于先进光刻的异金属Ti-Zr氧代纳米团簇光刻胶相关领域极紫外光刻材料科学平版印刷术纳米团簇纳米技术下一代光刻 X射线光刻光刻胶电子束光刻锆抵抗光电子学冶金图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1007/s40843-024-3013-9
DOI	10.1007/s40843-024-3013-9 doi
其它	期刊：Science China Materials 作者：Yang Qiao; Guangyue Shi; Ou Zhang; Lixing You; Michaela Vockenhuber; et al 出版日期：2024-08-06
求助人	Otter 在 2024-08-12 05:36:24 发布自美国，悬赏 10 积分
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