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Capacitance Characteristics in InN Thin Films Grown by Reactive Sputtering on GaAs
GaAs上反应溅射InN薄膜的电容特性
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Wei Pan; Zhigang Qian; Wenzhong Shen; Hiroshi Ogawa; Qixin Guo 出版日期:2003-09-15 |
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