Comprehensive effect of grain size and original target morphology on sputtering behavior of magnetron sputtering target

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标题	Comprehensive effect of grain size and original target morphology on sputtering behavior of magnetron sputtering target 晶粒尺寸和原始靶形貌对磁控溅射靶溅射行为的综合影响相关领域溅射表面粗糙度材料科学溅射沉积蚀刻（微加工）形态学（生物学）表面光洁度光电子学粒度电压原设备制造商光学复合材料纳米技术薄膜电气工程物理计算机科学工程类图层（电子）生物遗传学操作系统
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.111866
DOI	10.1016/j.vacuum.2023.111866 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Chen-Xi Yi; Haotian Zhang; Shuaikang Wang; Gui-Sheng Han; Zhiling Liu; et al 出版日期：2023-01-24
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