标题 |
Comprehensive effect of grain size and original target morphology on sputtering behavior of magnetron sputtering target
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DOI |
10.1016/j.vacuum.2023.111866
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其它 |
期刊:Vacuum 作者:Chen-Xi Yi; Haotian Zhang; Shuaikang Wang; Gui-Sheng Han; Zhiling Liu; et al 出版日期:2023-01-24 |
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