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标题
Numerical investigation of flow and particles contamination in reticle mini environment for extreme ultraviolet lithography
极紫外光刻掩模版微型环境中流动和颗粒污染的数值研究
相关领域
十字线 极紫外光刻 材料科学 极端紫外线 平版印刷术 粒子（生态学） 光学 扫描仪 遮罩（插图） 流量（数学） 光掩模 体积流量 航空航天工程 纳米技术 机械 光电子学 抵抗 物理 工程类 激光器 艺术 海洋学 图层（电子） 地质学 薄脆饼 视觉艺术
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003791
DOI
10.1116/6.0003791 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Qi Wang; Kuibo Wang; Xiaobin Wu; Zixiang Gao
出版日期：2024-08-30
求助人
QRE 在 2024-12-20 19:59:54 发布自北京，悬赏 10 积分
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