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The etching of CHF3 plasma polymer in fluorine-containing discharges
含氟放电中CHF3等离子体聚合物的刻蚀
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者:Anand J. Bariya; Hongqing Shan; Curtis W. Frank; S. A. Self; J.P. McVittie 出版日期:1991-01-01 |
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