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Enhanced TDDB-Reliability of Ultra-Thin Zirconia Capacitors Featuring Al-doped Oxide Layers
增强掺铝氧化物层超薄氧化锆电容器的TDDB可靠性
相关领域
电容器
随时间变化的栅氧化层击穿
材料科学
可靠性(半导体)
兴奋剂
光电子学
立方氧化锆
氧化物
电子工程
电气工程
复合材料
栅氧化层
电压
晶体管
工程类
冶金
陶瓷
物理
功率(物理)
量子力学
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其它 |
期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Xinyi Tang; Yuanbiao Li; Songming Miao; Guangwei Xu; Jifang Chen; et al 出版日期:2024-06-01 |
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