Optimizing HVPE flow field to achieve GaN crystal uniform growth

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标题	Optimizing HVPE flow field to achieve GaN crystal uniform growth 优化HVPE流场实现GaN晶体均匀生长相关领域基质（水族馆）多物理 Crystal（编程语言）材料科学氢化物体积流量晶体生长外延流量（数学）增长率分析化学（期刊）化学机械纳米技术结晶学热力学几何学冶金金属图层（电子）色谱法物理数学计算机科学程序设计语言海洋学有限元法地质学
网址	https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127214
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2023.127214 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Yuzhu Wu; Chengmin Chen; Jiaoxian Yu; Guodong Wang; Shouzhi Wang; et al 出版日期：2023-07-01
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