The role of plasma technology in barrier coating deposition

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标题	The role of plasma technology in barrier coating deposition 等离子体技术在阻挡涂层沉积中的作用相关领域材料科学等离子体增强化学气相沉积等离子体原子层沉积等离子体处理纳米技术涂层化学气相沉积介质阻挡放电远程等离子体光电子学阻挡层物理气相沉积有机发光二极管图层（电子）物理量子力学电介质
网址	https://doi.org/10.1007/s41614-022-00087-z
DOI	10.1007/s41614-022-00087-z doi
其它	期刊：Reviews of modern plasma physics 作者：Zhongwei Liu; L. Yang; Lixia Sang; Zhengduo Wang; Haibao Zhang; et al 出版日期：2022-09-07
求助人	Aronte 在 2024-06-29 11:41:07 发布自上海，悬赏 10 积分
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