Selective etching of silicon nitride over silicon oxide using ClF3/H2 remote plasma

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标题	Selective etching of silicon nitride over silicon oxide using ClF3/H2 remote plasma 使用ClF 3/H2远程等离子体在氧化硅上选择性蚀刻硅的氮氧化物相关领域缓冲氧化物腐蚀材料科学氮化硅薄脆饼蚀刻（微加工）氮化物氧化物氧化硅等离子体等离子体刻蚀堆栈（抽象数据类型）硅分析化学（期刊）远程等离子体光电子学反应离子刻蚀纳米技术图层（电子）化学冶金化学气相沉积色谱法物理量子力学计算机科学程序设计语言
网址	https://www.nature.com/articles/s41598-022-09252-3.pdf
DOI	10.1038/s41598-022-09252-3 doi
其它	期刊：Scientific Reports 作者：Won Oh Lee; Ki Hyun Kim; Doo San Kim; You Jin Ji; Ji Eun Kang; et al 出版日期：2022-04-05
求助人	小星星在 2024-09-03 17:17:01 发布自湖南，悬赏 10 积分
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