Fluorocarbon high density plasmas. VII. Investigation of selective SiO2-to-Si3N4 high density plasma etch processes

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标题	Fluorocarbon high density plasmas. VII. Investigation of selective SiO2-to-Si3N4 high density plasma etch processes 碳氟化合物高密度等离子体。VII.选择性SiO2-Si3N4高密度等离子体刻蚀工艺的研究相关领域氟碳化合物 X射线光电子能谱氟等离子体化学选择性蚀刻（微加工）分析化学（期刊）氢等离子体刻蚀化学工程有机化学工程类图层（电子）催化作用物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1116/1.580091
DOI	10.1116/1.580091 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Ying Zhang; G. S. Oehrlein; F. H. Bell 出版日期：1996-07-01
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