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![]() 通过硫钝化和沉积后退火优化HfO2/Si0.73Ge0.27栅极堆叠的界面性能
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Zhengyang Chen; Zhangsheng Lan; Yiran Lin; Tomonori Nishimura; Choonghyun Lee; et al 出版日期:2024-03-27 |
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