Uniform deposition of silicon oxide film on cylindrical substrate by radially arranged plasma jet array

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标题	Uniform deposition of silicon oxide film on cylindrical substrate by radially arranged plasma jet array 径向排列的等离子体射流阵列在圆柱形衬底上均匀沉积氧化硅膜相关领域材料科学基质（水族馆）硅等离子体沉积（地质）氧化硅复合材料光电子学古生物学海洋学物理氮化硅量子力学沉积物生物地质学
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S025789722...
DOI	10.1016/j.surfcoat.2022.128365 doi
其它	期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Ruixue Wang; Zhangchuan Xia; Xianghao Kong; Shuang Xue; Huiyan Wang 出版日期：2022-03-25
求助人	Marlatinda 在 2025-02-22 16:21:42 发布自江苏，悬赏 10 积分
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