标题 |
![]() 通过二次溅射光刻从单个主图案制造10 nm尺度的复杂三维图案化结构
相关领域
平版印刷术
材料科学
溅射
纳米尺度
制作
纳米技术
蚀刻(微加工)
纳米结构
图层(电子)
支柱
光电子学
薄膜
机械工程
工程类
病理
医学
替代医学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Nanoscale 作者:Hwan‐Jin Jeon; Hae‐Wook Yoo; Eun Hyung Lee; Sung Woo Jang; Jong-Seon Kim; et al 出版日期:2013-01-01 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|