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Polymer Films' Residual Stress Attenuation from the Supramolecular Complexation with Ultra‐Small Nanoparticles for High Resolution Nanoimprint Lithography
超小纳米粒子超分子络合对高分辨率纳米压印光刻聚合物薄膜残余应力衰减的影响
相关领域
材料科学
纳米压印光刻
聚合物
残余应力
薄脆饼
纳米技术
铸造
平版印刷术
复合材料
制作
光电子学
医学
替代医学
病理
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其它 |
期刊:Angewandte Chemie International Edition 作者:Jiadong Chen; Shenglin Yao; Bin Wang; Qiang Yu; Binghui Xue; et al 出版日期:2024-12-23 |
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