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标题
SiO2and Si3N4etch mechanisms in NF3/hydrocarbon plasma
NF3/碳氢化合物等离子体中SiO2和Si3N4的蚀刻机理
相关领域
碳氢化合物 等离子体 材料科学 化学 分析化学（期刊） 环境化学 物理 有机化学 核物理学
网址
https://doi.org/10.1088/0022-3727/39/4/013
DOI
10.1088/0022-3727/39/4/013 doi
其它 期刊：Journal of Physics D Applied Physics
作者：Puthajat Machima; N. Hershkowitz
出版日期：2006-02-03
求助人
StevenZhao 在 2024-12-25 08:45:00 发布自湖北，悬赏 10 积分
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