标题 |
Fabrication and properties of N-doped top layer of Ga2O3 films by magnetron sputtering
磁控溅射法制备N掺杂Ga2O_3薄膜及其性能
相关领域
材料科学
X射线光电子能谱
溅射沉积
兴奋剂
带隙
退火(玻璃)
溅射
透射率
分析化学(期刊)
薄膜
表面粗糙度
光电子学
紫外线
纳米技术
冶金
复合材料
化学
化学工程
色谱法
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Surface Science 作者:Ning Zhang; Yongsheng Wang; Zihao Chen; Bin Zhou; Jie Gao; et al 出版日期:2022-08-28 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|