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 X‐Ray Multibeam Ptychography at up to 20 keV: Nano‐Lithography Enhances X‐Ray Nano‐Imaging 高达20 keV的X射线多束重叠成像：纳米光刻增强X射线纳米成像
相关领域
纳米-
摄影术
X射线
平版印刷术
材料科学
X射线光刻
纳米技术
光学
物理
光电子学
衍射
抵抗
复合材料
图层（电子）
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期刊：Advanced Science 作者：Tang Li; Maik Kahnt; Thomas L. Sheppard; Rong Yang; Ken Vidar Falch; et al 出版日期：2024-06-23 |
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