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 Contribution of the interfacial oxygen vacancies on the asymmetric switching behaviors of the Al:Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectric films 界面氧空位对Al：Hf0.5Zr 0.5 O2铁电薄膜不对称开关行为的影响
相关领域
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：X.W. Liu; Weidong Zhao; Jiawei Wang; Lulu Yao; Man Ding; et al 出版日期：2024-11-22 |
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