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标题
Resist outgassing characterization for qualification in high power EUV lithography
用于高功率EUV光刻鉴定的抗蚀剂除气表征
相关领域
极紫外光刻 抵抗 放气 极端紫外线 平版印刷术 材料科学 光学 光电子学 电子束光刻 纳米技术 物理 激光器 图层（电子） 天文
网址
https://doi.org/10.1117/12.916347
DOI
10.1117/12.916347 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：T. Takahashi; Norihiko Sugie; Kazuhiro Katayama; Isamu Takagi; Yukiko Kikuchi; et al
出版日期：2012-03-23
求助人
Heidi 在 2025-02-06 11:12:10 发布自美国，悬赏 20 积分
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