标题 |
Top-Gate Low-Threshold Voltage $p\hbox{-}\hbox{Cu}_{2} \hbox{O}$ Thin-Film Transistor Grown on $\hbox{SiO}_{2}/ \hbox{Si}$ Substrate Using a High-$\kappa$ HfON Gate Dielectric
顶栅低阈值电压$p\hbox{-}\hbox{Cu}_{2}\hbox{O}$薄膜晶体管生长在$\hbox{SiO}_{2}/\hbox{Si}$衬底上,使用高$\kappa$HfON栅极电介质
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薄膜晶体管
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Xiao Ping Zou; Guojia Fang; Longyan Yuan; Meiya Li; Wenjie Guan; et al 出版日期:2010-06-25 |
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