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标题
Characterization of silicon oxynitride films deposited by HIPIMS deposition technique
HIPIMS沉积技术沉积氮氧化硅薄膜的表征
相关领域
氮化硅 高功率脉冲磁控溅射 表征（材料科学） 材料科学 硅 沉积（地质） 光电子学 溅射沉积 溅射 纳米技术 薄膜 氮化硅 地质学 沉积物 古生物学
网址
https://doi.org/10.1364/oic.2019.wd.2
DOI
10.1364/oic.2019.wd.2 doi
其它 期刊：
作者：Bo-Huei Liao; Chien‐Nan Hsiao; Ming Hua Shiao; Shih-Hao Chan; Sheng‐Hui Chen; et al
出版日期：2019-01-01
求助人
KID 在 2024-10-11 22:36:43 发布自福建，悬赏 10 积分
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