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Mobility Enhancement in CVD-Grown Monolayer MoS2 Via Patterned Substrate-Induced Nonuniform Straining
利用图案化衬底诱导的非均匀应变增强CVD生长的MoS2单层的迁移率
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期刊:Nano Letters 作者:Arijit Kayal; Sraboni Dey; Harikrishnan Gopalakrishnan; Renjith Nadarajan; Shashwata Chattopadhyay; et al 出版日期:2023-06-22 |
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