Topology optimization for optical projection lithography with manufacturing uncertainties

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标题	Topology optimization for optical projection lithography with manufacturing uncertainties 具有制造不确定性的光学投影光刻拓扑优化相关领域光刻可制造性设计拓扑优化光学接近校正平版印刷术计算光刻投影（关系代数）光掩模计算机科学过程（计算）浸没式光刻拓扑（电路）材料科学 X射线光刻抵抗工程类机械工程算法纳米技术光电子学有限元法电气工程结构工程图层（电子）操作系统
网址	https://doi.org/10.1364/ao.53.002720
DOI	10.1364/ao.53.002720 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Mingdong Zhou; Boyan S. Lazarov; Ole Sigmund 出版日期：2014-04-16
求助人	沉静的元正在 2024-10-14 09:06:18 发布自中国，悬赏 10 积分
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